眾所周知，在芯片制造過程中， 光刻機(jī)占到所有制造設(shè)備成本的35%，占到工時(shí)的40%左右，可以說是芯片制造中最重要的設(shè)備之一了。
但這么重要的設(shè)備，國內(nèi)水平較為落后，目前還在90nm節(jié)點(diǎn)，只能用于90nm芯片的制造，屬于低端產(chǎn)品，而ASML最強(qiáng)，可用于5nm芯片的生產(chǎn)，中間隔了10年以上的技術(shù)。
但重要的是當(dāng)芯片進(jìn)入到7nm時(shí)，必須要用到EUV光刻機(jī)，即紫外線光刻機(jī)，波長為19.3nm的光源，這種光刻機(jī)只有ASML能夠制造，而中國芯要實(shí)現(xiàn)7nm或以下技術(shù)，就得看ASML的臉色，要看對(duì)方賣不賣EUV光刻機(jī)給你。
但近日，有一則大消息傳出，讓網(wǎng)友們沸騰了，那就是“中科院發(fā)布5nm激光光刻技術(shù)”，因?yàn)橹锌圃貉芯砍隽艘环N新型5nm超高精度激光光刻加工方法。
所以很多人認(rèn)為這是中國芯的突破，不用從ASML買光刻機(jī)了，中國也有自己的5nm光刻機(jī)什么的了。
但要我說，大家先別沸騰，這個(gè)5nm光刻技術(shù)，和ASML的5nm光刻機(jī)是兩碼事。
首先，這個(gè)研究團(tuán)隊(duì)研發(fā)出來的是激光直寫技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的規(guī)模生產(chǎn)，但這并非是集成電路，自然也不是指芯片制造了。
目前眾多的產(chǎn)品都需要光刻，但并不是所有的光刻技術(shù)，就一定可以用于光刻機(jī)，這中間是有巨大差別的，別看到光刻技術(shù)就以為是光刻機(jī)技術(shù)。
其次，就算它能夠用于光刻機(jī)，但從原理到最后量產(chǎn)，還需要其它各種元件來組裝出來，這個(gè)只是光刻部分，中間也有著十萬八千里的距離，也許10年8年，也許20年，甚至最后不能量產(chǎn)也是有可能的。
所以對(duì)于中科院發(fā)布的這種5nm激光光刻技術(shù)，固然是科技的進(jìn)步，但卻和芯片制造的光刻機(jī)目前沒有太多的聯(lián)系，大家先別過分解讀，也別沸騰，先冷靜點(diǎn)。
