在許多工業(yè)設(shè)計(jì)之中，最困難的是制造手機(jī)芯片。近年來(lái)，由于芯片問(wèn)題，我國(guó)科技企業(yè)頻頻遭遇“瓶頸”。許多中國(guó)人對(duì)此感到擔(dān)憂。國(guó)內(nèi)不少?gòu)S商也開始加快布局芯片的自主研發(fā)。雖然自主研發(fā)的國(guó)產(chǎn)芯片已進(jìn)入快車道，但由于我國(guó)長(zhǎng)期沒(méi)有先進(jìn)的光刻設(shè)備，與國(guó)際頂尖巨頭仍有較大差距。
眾所周知，芯片設(shè)計(jì)的研究與開發(fā)離不開光刻機(jī)，特別是具有先進(jìn)工藝技術(shù)的芯片。但ASML是全球先進(jìn)平版印刷市場(chǎng)之上的巨頭。此前，中芯國(guó)際還花了很多錢購(gòu)買了一臺(tái)先進(jìn)的平版印刷機(jī)。但由于美國(guó)的原因，ASML光刻機(jī)無(wú)法順利進(jìn)入中國(guó)，這也給我國(guó)7Nm及更先進(jìn)的工藝技術(shù)芯片的發(fā)展帶來(lái)了更嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。要知道，我國(guó)目前的量產(chǎn)光刻機(jī)還處于90nm的階段，比ASML光刻機(jī)落后了十多年?？梢?jiàn)差距之大，也說(shuō)明我國(guó)加強(qiáng)光刻機(jī)建設(shè)刻不容緩。
雖然之中芯國(guó)際已經(jīng)表示可以不用光刻機(jī)開發(fā)7Nm工藝，但5nm甚至更先進(jìn)的工藝芯片產(chǎn)品絕對(duì)離不開光刻機(jī)。如果沒(méi)有光刻機(jī)，就意味著中國(guó)在未來(lái)的芯片競(jìng)爭(zhēng)中將落后于對(duì)手，未來(lái)很可能被對(duì)手欺負(fù)。
然而，最近傳來(lái)的好消息是，光刻機(jī)的問(wèn)題可以得到有效的解決。據(jù)悉，上海微電子有限公司在紫外光源的幫助之下，成功實(shí)現(xiàn)了22nm的突破，推動(dòng)了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展，向前邁進(jìn)了一大步。一旦技術(shù)成熟，意味著22nm光刻機(jī)將在中國(guó)問(wèn)世，這將推動(dòng)國(guó)產(chǎn)芯片的進(jìn)一步發(fā)展，同時(shí)也給其他平版印刷廠家?guī)?lái)了信心，這將有助于推動(dòng)更多的廠家共同打造國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，提高中國(guó)在國(guó)際市場(chǎng)之上的競(jìng)爭(zhēng)力。
雖然我國(guó)在光刻領(lǐng)域取得了新的進(jìn)展，但國(guó)內(nèi)光刻生產(chǎn)所需的零部件仍需從國(guó)外市場(chǎng)進(jìn)口。顯然，在平版印刷的生產(chǎn)過(guò)程之中，中國(guó)仍然嚴(yán)重依賴外國(guó)。然而，無(wú)論多么困難，中國(guó)企業(yè)都不能放棄。光刻機(jī)的自主研發(fā)是一個(gè)漫長(zhǎng)的過(guò)程。未來(lái)，我們需要不斷努力，掌握自己手中的核心技術(shù)和供應(yīng)鏈。希望今后國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)能在國(guó)際市場(chǎng)之上取得更好的成績(jī)，使國(guó)產(chǎn)芯片能夠立足于全球市場(chǎng)。
