我們在一些技術(shù)領(lǐng)域方面的缺陷是比較明顯的，由于早期的發(fā)展當中，我們的起步就比較晚了，所以現(xiàn)在想要這些方面有所提升，也許要付出更多的努力。
在這方面最讓大家頭疼的其實就是芯片制造領(lǐng)域，我國雖然有很多的一些芯片研制能力提升，但是最主要的一個缺陷就在于光刻機的研制。
但是如果仔細的來分析中國現(xiàn)在的發(fā)展的話，我們?nèi)钡牟粌H僅是光刻機，就算現(xiàn)在能夠買進光刻機在其他方面的欠缺也還是比較明顯的。
除開主要的光刻機之外在光刻膠的發(fā)展上也是我們的短板，在芯片上的一些生產(chǎn)材料都是我們比較難以補上的。
光刻機是大家已經(jīng)非常清楚的，另一種東西就是光刻膠，光刻膠是在芯片生產(chǎn)過程當中，關(guān)于一些細微圖形加工的關(guān)鍵材料。
它和早期的照相機沖洗膠卷其實是一樣的道理，由于是一種有機化合物，在被紫外線曝光之后，就會產(chǎn)生變化，而我國關(guān)于芯片的研制是非常有突破的，所以即使有了這一技術(shù)，也還沒有無法在這方面進行補助，所以想要自主生產(chǎn)芯片，困難還是比較大。
有很多人覺得那既然和相機膠卷的原理一樣，那么可不可以利用這樣的制造技藝呢？雖然說原理一樣，但是在材料利用上，他的要求是更高的，如果不能找到適合的一些東西的話，它的發(fā)展也會更加困難。
由于光刻膠的分辨率遠遠要高于普通的膠卷，所以它是需要用顯微鏡才能看清楚的，這也在制造過程當中帶來了更多的難題。
除開技術(shù)之外，它的生產(chǎn)還涉及了專利以及保護的問題，國內(nèi)的公司即使知道了它的一些配方和生產(chǎn)工藝，也是無法完成自主生生產(chǎn)的，畢竟受到了專利的保護，所以這也是我們在新品建設(shè)領(lǐng)域難以發(fā)展的一大原因。
即使近年來我們的發(fā)展比較有優(yōu)勢，但是想要獲得一些更好的能力成就也還是比較困難的，我們在高端制造領(lǐng)域難以達到標準，想有所發(fā)展就更要克服困難。
好了，今天就為大家介紹到這里，我們下一期再見！
